Clean 2020: het waarom en hoe van de nieuwe ASML richtlijn voor cleanliness

Naast Model Based Definition is cleanliness het andere thema dat bij ASML hoog op de agenda staat. De moderne chipmachines werken met een dusdanig hoog vacuüm en hoge nauwkeurigheid, dat de eisen aan de oppervlaktereinheid op een niveau liggen dat het hele proces moet kloppen om deze te halen. Clean 2020 brengt eind januari de experts samen.

Zelfs deeltjes van 30 nm kunnen fouten veroorzaken in de nieuwste generatie EUV-machines van ASML. Sporen van bepaalde elementen die op het oppervlak achterblijven, kunnen een desastreus effect hebben op de optische elementen in zo’n machine. Daarom heeft ASML een nieuwe GSA richtlijn ontwikkeld.

Hoge eisen aan oppervlaktereinheid uitdaging voor de hele supply chain

Reinigen niet meer voldoende voor Grade 1

Dirk Trienekens, Cleanliness Expert bij ASML, gaat tijdens Clean 2020 in op de nieuwe spelregels zoals ASML die heeft samengevat in de Generic Standard of ASML (GSA). Hij laat daarnaast zien hoe de nieuwe werkwijze er uitziet om aan deze regels te voldoen. Voor de Grade 1 producten liggen deze extreem hoog. Een simpele reiniging van de onderdelen volstaat niet langer. Dirk Trienekens gaat tijdens Clean 2020 in op hoe de chipmachinefabrikant en de supply chain moeten samenwerken om de eisen van de nieuwe GSA richtlijn in de praktijk te halen.

Alle toeleveranciers moeten meewerken

Robert Meier, hoofd Cleaning Process Technology bij Zeiss, pakt dit thema eveneens op vanuit de aanpak in de hele supply chain. De oppervlaktereinheid die de lithografie industrie eist, is niet langer iets dat één partij in de keten kan waarmaken. Voor de hoogwaardige componenten voor de EUV machines zijn zowel specifieke reinigingsmachines als processen nodig, aldus Meier. ASML en Carl Zeis zijn samen opgetrokken in het ontwikkelen van de nieuwe richtlijn, die volgens Robert Meier door de hele supply chain heen impact heeft. Niet alleen op de 1. Tier supplier, ook op de toeleveranciers die op een lager niveau werken.

Oppervlaktereinheid begint bij de design engineer

Moleculaire verontreiniging – daar gaat het om – op het eindproduct voorkomen, begint helemaal vooraan in de supply chain. Bij de ontwerp engineers. Dat zal Freek Molkenboer, System Engineer bij TNO, laten zien in zijn presentatie tijdens Clean 2020. Het is van belang om tijdens het ontwerpstadium van een product of een systeem, de oppervlaktereinheidseisen realistisch op te stellen. Dit om te voorkomen dat het product óf niet schoon genoeg is óf dat er overbodige reinigingskosten worden gemaakt.

Praktische informatie

Clean 2020 vindt op 28 januari plaats bij het Mikrocentrum in Veldhoven. Naast presentaties door de specialisten uit de sector, exposeren bedrijven die oplossingen leveren voor de oppervlaktereinheid en het voorkomen van vervuiling. Klik hier voor het programma van Clean 2020. En hier vind je een overzicht van alle exposanten.