Deutscher Zukunfstpreis 2020 voor ontwikkelteam van EUV-technologie
Trumpf heeft samen met Zeiss en Fraunhofer de Deutscher Zukunfstpreis 2020 gewonnen met de EUV-technologie die ze ontwikkeld hebben voor de lithografiemachines van ASML. Nieuw licht voor het digitale tijdperk, zo bestempelen de drie partijen hun innovatie. Meer dan 2.000 patenten beschermen de technologie, die ASML wereldwijd als enige gebruikt.
De Deutscher Zukunstpreis wordt elk jaar uitgereikt aan een team ontwikkelaars van hoogstaande innovaties die tot concreet toepasbare producten leiden. De jury maakt van alle inschrijvingen een long list om van daaruit de drie nominaties te kiezen. Naast de innovatiewaarde kijkt de jury nadrukkelijk naar de economische betekenis en het potentieel voor de samenleving. Ondanks alle Coronabeperkingen die in Duitsland gelden, heeft president Frank-Walter Steinmeier de prijs in Berlijn uitgereikt aan het team van Zeiss, Trumpf en Fraunhofer.
Trumpf, Zeiss en Fraunhofer winnen prestigieuze Duitse technologieprijs
Resultaat van samenwerking
Peter Leibinger, Chief Technology Officer bij Trumpf, staat de EUV-technologie symbool voor wat je met uitvinders spirit, verstand van techniek, doorzettingsvermogen en goede samenwerking kunt bereiken. “Het mammoetproject EUV schept ook in Coronatijden werkgelegenheid en zorgt daarnaast ervoor dat we in Europa vooroplopen bij de productie van microchips.” Trumpf levert voor de EUV-technologie een van ’s werelds krachtigste gepulste lasers. Zeiss zorgt met de optieken voor het passend belichtingssysteem. Een van de innovaties betreft de spiegels die gebruikt worden. Zelfs de geringste vervuiling zorgt voor een fout bij de belichting. Fraunhofer is in dit project de partner die de speciale coatingtechnologie voor de spiegels ontwikkeld heeft.
Wet van Moore blijft gelden
De drie partners hebben de prestigieuze Duitse technologieprijs niet alleen gekregen vanwege het technologische hoogstandje dat EUV-technologie is. Het gaat mede om de maatschappelijke betekenis. Hiermee kan ASML machines bouwen voor chips met nog meer schakelingen en wordt feitelijk de hele digitalisering van de samenleving mogelijk gemaakt. De Wet van Moore blijft gelden. In de productie ervan met de machines van ASML worden miljarden structuren op het silicium belicht. De ontwikkeling van de technologie heeft bijna drie decennia geduurd.
Hoe maakt ASML EUV-licht?
Om deze alsmaar kleinere structuren aan te brengen, heeft men Extreem UV-licht nodig met een golflengte van 13,5 nanometer. Om je een beeld te geven: de gemiddelde dikte van een menselijk haar bedraagt 50.000 nanometer. Om licht met een zo kleine golflengte op te wekken, hebben de drie winnaars van de Deutscher Zukunfstpreis 2020 een aantal technologische hoogstandjes moeten leveren. De extreem krachtige laser van Trumpf schiet in een vacuümkamer (ontwikkeld door ASML) laserstralen af op de 50.000 druppeltjes tin die per seconde voorbijkomen. Elk druppeltje wordt twee keer geraakt: de eerste keer om het druppeltje plat te drukken, de twee keer om het plasma op te wekken. Deze plasmaflits heeft de gewenste golflengte van 13,5 nanometer. Het geheel van spiegels en collectoren bundelen dit door de plasmastraal geëmitteerde EUV-licht zodat de wafers belicht kunnen worden. De uiteindelijke machine waarin de EUV-technologie terecht komt, weegt zo’n 180 ton. Alleen bedoeld om microchips te produceren.
